紫外臭氧清洗工作原理：
清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長(zhǎng)紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機(jī)污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體，比如CO2,H2O等。整個(gè)過(guò)程在室溫**發(fā)生，并且只需要1到幾分鐘完成。
*注1：白色氧化鋁暴露在UV能量下會(huì)變黃。這種現(xiàn)象是由于基材吸收UV能量， 而不是一種涂層。這種氧化鋁在加熱情況下會(huì)轉(zhuǎn)化為他原來(lái)的顏色。
**注2：清洗元件溫度的上升取決清洗過(guò)程的時(shí)間長(zhǎng)度。在大多數(shù)應(yīng)用，元件溫度可以視為室溫。
UV紫外臭氧清洗的特點(diǎn):
· 超潔凈表面
· 室溫操作
· 快速－大多數(shù)應(yīng)用10分鐘內(nèi)可完成
· 運(yùn)行簡(jiǎn)單
· 超低采購(gòu)成本和zui小運(yùn)行成本
· 10×10 英寸（25.4×25.4cm）
· 220伏
T10X10紫外臭氧清洗機(jī)是一款臺(tái)式的紫外臭氧清洗設(shè)備。通過(guò)紫外線（185nm和254nm）和臭氧清洗基材表面，能夠簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈表面。能去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁*等）上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí)，紫外清洗非常理想。獲得超潔凈的表面，只需要在傳統(tǒng)清洗后，再用紫外臭氧清洗幾分鐘。
T10X10紫外臭氧清洗機(jī)的屬性：
UVOC紫外清洗機(jī) | ||
Model | ||
型號(hào) | T10x10/OES | |
光照尺寸 | 10" x 10"（25.4×25.4cm） | |
有效面積: | 100 sq. in. | |
寬: | 14" | |
深: | 23 3/4" | |
高: | 14.5" | |
托盤推出深度: | 33" | |
滑行托盤: | 1 | |
結(jié)構(gòu): | 箱體和托盤為不銹鋼結(jié)構(gòu) | |
功耗: | 110Vac / 60Hz 5A Max or 230Vac / 50Hz 2.5 amp Max | |
臭氧排氣系統(tǒng): | 有臭氧排氣系統(tǒng) | |
排氣口尺寸: | 3" 直徑 | |
排氣需要: | 100cfm | |
定時(shí)器: | 在開(kāi)始或結(jié)束時(shí)峰鳴 | |
"ON"指示器: | 有 | 有 |
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