PicoMaster 200無(wú)掩模激光直寫(xiě)光刻機(jī)
●250納米分辨率（375納米激光源）
●300納米分辨率（405納米激光源）
●4095灰階
●業(yè)界最具實(shí)力的成套全息設(shè)計(jì)軟件
●最大230x230毫米基板尺寸
PicoMaster 200 是一款具有超高精度組件的多功能紫外激光寫(xiě)入器，專為用戶提供在感光層中創(chuàng)建最高自由度的微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。系統(tǒng)的光柵化工作原理，搭配上高速掃描以及可調(diào)螺距步進(jìn)激光頭，確保了整個(gè)曝光制程在感光層表面準(zhǔn)確而穩(wěn)定地完成。PicoMaster 200 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻，LED芯片，微流控芯片，微納結(jié)構(gòu)，灰度光刻 ，三維加工全息影像等多個(gè)領(lǐng)域。
系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn)：
√ 系統(tǒng)支持高達(dá)4095級(jí)的灰度、純二進(jìn)制模式；
√ 系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)精度最高小于250納米，線寬均勻性小于50納米；
√ 系統(tǒng)最大支持9英寸基版，400毫米/秒掃描速度，200x200毫米曝光面積；
√ 系統(tǒng)采取全封閉結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，必需的部件、控制架構(gòu)和真空泵都在外殼內(nèi)，便于快速安裝；
√ 統(tǒng)連接到空氣溫度調(diào)節(jié)器機(jī)組開(kāi)始供應(yīng)空調(diào)空氣時(shí)，內(nèi)置堆式過(guò)濾器將產(chǎn)生干凈的交叉氣流；
√ 系統(tǒng)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)由機(jī)械緩振系統(tǒng)支撐，它將過(guò)濾掉絕大多數(shù)的噪音振動(dòng)，以確保工作時(shí)的振動(dòng)最小
激光直寫(xiě)：
√ 系統(tǒng)使用405納米（可升級(jí)375納米）激光源在感光層上曝光，不需訂購(gòu)或制作掩模，圖案可隨用戶設(shè)計(jì)而改變；
√ 系統(tǒng)不使用掩模版，只需在基版上涂膠后用紫外激光聚焦進(jìn)行曝光，激光在靶區(qū)被連續(xù)地調(diào)制到規(guī)定的劑量；
√ 光刻膠在激光照射下會(huì)改變其化學(xué)結(jié)構(gòu)，曝光后很容易溶解在顯影劑中，只需暴露部分區(qū)域就可以形成目標(biāo)的圖案。
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