PMMA正性光刻膠
PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統(tǒng)。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類的安全溶劑中，曝光會(huì)導(dǎo)致聚合物鏈斷裂。PMMA最常用作直寫式電子束的高分辨率正性光刻膠，它具有極高的分辨率，易于處理和出色的薄膜特性。PMMA還可用作晶圓薄化的保護(hù)涂層，粘結(jié)粘合劑和刻蝕層。
材料用途：
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共聚物光刻膠是基于PMMA和?8.5％甲基丙烯酸的混合物。共聚物MMA（8.5）通常與PMMA結(jié)合使用在雙層剝離抗蝕劑工藝中，該工藝需要獨(dú)立控制CD尺寸和每個(gè)光刻膠層的形狀。標(biāo)準(zhǔn)共聚物光刻膠是在乳酸乙酯中配制的，并且可以在很寬的膜厚范圍內(nèi)使用。
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